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      四川光刻機

      四川光刻機之G-25XA型高精密光刻機的產品介紹:一、 設備的主要用途及特點本設備主要適用于對Φ100mm以下,厚度為5mm以下的各種基…

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      四川光刻機之G-25XA型高精密光刻機的產品介紹:

      一、 設備的主要用途及特點

      本設備主要適用于對Φ100mm以下,厚度為5mm以下的各種基片光刻(包括非常規基片、碎片及表面不平整基片)

      二、主要技術指標

      1、對準精度:±0.5μm。

      2、微動臺掃描范圍±20mm,X、Y可調范圍±4mm。

      3、承片臺上下可移動范圍為5mm,旋轉角度*大為90°。

      4、采用多點光源曝光頭,光源采用GCQ200Z型**壓直流球形汞燈,風冷,(光強穩定可調,不用頻繁更換汞燈),光的不均勻性≤±6%(Φ100 mm范圍之內) ,*大出射光束為Φ120mm。

      5、采用雙目分離視場顯微鏡,放大倍數50X×375X(可采用雙CCD加液晶監視器來顯示,放大倍數30~189X或67.5X~420X)。

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